Fujifilm تستثمر 10 مليارات ين لمضاعفة إنتاج أشرطة التخزين المغناطيسي
التوسعة تُنفَّذ في مصنع Odawara بين السنوات المالية 2026 و2028 وتركز على شريط LTO Ultrium 10 بسعة 30 تيرابايت.
أعلنت شركة Fujifilm يوم 29 أكتوبر 2026 أنها ستستثمر نحو 10 مليارات ين لتوسيع طاقة إنتاج الأشرطة المغناطيسية في مصنعها بمدينة Odawara في محافظة Kanagawa، بما يرفع الطاقة إلى نحو خمسة أضعاف مستوى السنة المالية 2025. وذكرت منصة digitaltoday.co.kr الخبر نقلاً عن وسائل إعلام يابانية.
ويُنفَّذ الاستثمار على مدى السنوات المالية 2026 إلى 2028، مع إضافة معدات إنتاج وكوادر بشرية. وقالت الشركة إن هذا هو أكبر مبلغ تضخّه في منشآت مخصّصة لأشرطة LTO المغناطيسية.
ويتركّز التوسع على شريط LTO Ultrium 10، الذي تبلغ سعته 30 تيرابايت دون ضغط، وتصل إلى 75 تيرابايت عند نسبة ضغط 2.5:1.
تقنية الجزيئات المغناطيسية
وتستخدم Fujifilm في تصنيع الأشرطة جزيئات مغناطيسية هجينة دقيقة تجمع بين تقنيتي ferrite الباريوم وferrite السترونشيوم.
وكانت الشركة قد طرحت شريط LTO Ultrium 10 العام الماضي، بعد أن أطلقت أول منتج لها ضمن معيار LTO في عام 2000. وفي عام 2011 أصبحت أول شركة في العالم تسوّق مادة الباريوم ferrite المغناطيسية للأشرطة تجارياً.
أسئلة سريعة
كم تبلغ قيمة استثمار Fujifilm في مصنع Odawara؟
نحو 10 مليارات ين، تُنفَّذ على مدى السنوات المالية 2026 إلى 2028.
ما سعة شريط LTO Ultrium 10؟
30 تيرابايت دون ضغط، وتصل إلى 75 تيرابايت عند ضغط بنسبة 2.5:1.