施耐德电气发布半导体工厂整合基础设施战略
施耐德电气推出涵盖供电、制冷与自动化的整合方案，Galaxy VXL不间断电源最高支持1250千瓦。
据zdnet.co.kr报道，施耐德电气11日宣布，针对半导体制造工厂推出整合基础设施战略。该战略将供电、制冷、自动化与数据驱动运营技术结合在一起。
该战略的核心产品之一是Galaxy VXL三相不间断电源，功率覆盖500至1250千瓦。施耐德电气表示，该产品在双变换模式下的电源效率最高可达97.5%，在名为“eConversion”的高效率模式下最高可达99%。其热插拔技术支持在不停止运行的情况下更换电源模块。
施耐德电气计划把此前供应给数据中心的电源保护技术延伸至韩国半导体晶圆厂。
施耐德电气曾与美国一家半导体企业开展长期概念验证，预计可在公用设施环节节省约10%的电力，在整个晶圆厂范围内节省约2.5%。
该公司目前正在台湾地区支持台积电的AI工厂建设，使用英伟达Omniverse与ETAP技术。
快速问答
Galaxy VXL的功率范围和效率是多少？
这是一款三相不间断电源，支持500至1250千瓦，双变换模式下效率最高97.5%，eConversion高效率模式下最高99%。
Galaxy VXL如何减少停机？
它采用热插拔技术，可在不停止运行的情况下更换电源模块。