하이-NA EUV 양산 2028년부터… 국내 소재업계 인증 준비 본격화
삼성전자 등 DRAM 업체들이 2028년부터 하이-NA EUV 램프업에 들어가는 가운데, FST와 S&S테크가 인증과 생산능력 확보에 나섰다.
하이-NA EUV 노광 장비의 양산 도입 일정이 2028년 이후로 잡히면서 관련 준비 작업이 마스크 업계로 옮겨가고 있다고 업계 소스들이 10월 26일 전했다. 네덜란드 반도체 매체 Bits&Chips는 삼성전자를 비롯한 DRAM 업체들이 2028년부터 하이-NA EUV 램프업을 본격화할 것이라고 보도했다.
파운드리 업체별 일정은 엇갈린다. 인텔은 조기 도입에 따른 비용과 위험을 감수하고 TSMC보다 2년 앞서 하이-NA EUV 양산에 들어간다. TSMC는 2030년 양산 시작을 결정했고, 삼성전자 파운드리 사업부도 TSMC와 비슷한 수준의 일정을 잡은 것으로 전해졌다.
마스크·펠리클 인증 작업 착수
SK증권에 따르면 FST는 연내 ASML로부터 CNT 기반 EUV 펠리클 인증을 받고 내년 시장에 진입할 것으로 예상된다. FST의 EUV 관련 인프라 장비는 내년 1분기 주요 고객사의 최첨단 파운드리 라인에 설치될 예정이다.
S&S테크는 지난해 10월 용인에 EUV 전용 센터를 완공했고, 내년 초 EUV 블랭크 마스크 고객 인증 테스트를 마치는 것을 목표로 하고 있다. 회사는 지난 9월 EUV 펠리클 고객 품질 테스트도 시작했다. 당초 올해 2분기로 예상됐던 블랭크 마스크 인증은 한 차례 연기된 상태다.
시장조사기관 SEMI에 따르면 포토마스크 물량에서 EUV 마스크가 차지하는 비중은 2020년 약 1%에서 2025년 약 7%로 늘었다. QY리서치 기준 2025년 매출 기준 블랭크 마스크 시장은 신에츠마이크로시, 호야, AGC 등 일본 3개사가 약 86%를 차지하고 있다.
한눈에 보기
하이-NA EUV 양산은 언제 시작되나?
인텔이 TSMC보다 2년 앞서 도입하며, TSMC는 2030년 양산을 결정했다. 삼성전자를 비롯한 DRAM 업체들은 2028년부터 램프업을 본격화할 전망이다.
FST와 S&S테크의 EUV 준비 상황은?
FST는 연내 ASML의 CNT 기반 EUV 펠리클 인증을 받고 내년 시장 진입이 예상된다. S&S테크는 내년 초 블랭크 마스크 고객 인증 완료를 목표로 하고 있다.
블랭크 마스크 시장 점유율은?
QY리서치에 따르면 2025년 매출 기준 신에츠마이크로시, 호야, AGC 등 일본 3개사가 약 86%를 차지한다.