俄罗斯泽列诺格勒纳米中心完成130nm光刻机第三阶段研发
泽列诺格勒纳米技术中心已完成其首台130nm光刻设备的第三阶段研发，目前该设备正在进行内部工程验收测试。
据tomshardware.com报道，俄罗斯泽列诺格勒纳米技术中心（ZNTC）已完成其首台可加工200毫米晶圆、采用130nm工艺技术的光刻设备的第三阶段研发工作。该设备目前正在进行内部工程与验收测试。
根据CNews获取的文件，这套光刻系统由白俄罗斯公司Planar开发，机械组件和零部件也由其制造。设备所用激光器由Lassard公司研发。
俄罗斯工业和贸易部为该研发项目拨款约7000万美元。据估算，单台ZNTC步进机成本约为670万美元，其激光光源约60万美元，合计约730万美元。
历史背景
据此前消息，该原型机的交付时间比预期晚了5个月。在更早的年份，Intel和AMD分别在2001年和2002年采用130nm制造工艺；ASML的PAS 5500/150步进机在2001年第一季度推出时标价为310万美元。俄罗斯芯片制造商历史上曾开发过两个130nm级节点，均依赖ASML的光刻设备。
快速问答
这台光刻设备目前处于什么状态？
该设备已完成第三阶段研发，目前正在进行内部工程与验收测试。
这台光刻设备由谁开发？
光刻系统由白俄罗斯公司Planar开发并制造机械组件和零部件，激光器由Lassard研发。
该研发项目的成本是多少？
俄罗斯工业和贸易部拨款约7000万美元。单台步进机估计约670万美元，激光光源约60万美元，合计约730万美元。