شركة Langdao Silex الصينية تعرض نموذجاً لمصدر ضوء EUV بقدرة تتجاوز 15 واط

عرضت شركة Langdao Silex الصينية نموذجاً أولياً لمصدر ضوء للأشعة فوق البنفسجية المتطرفة (EUV) بقدرة إخراج تتجاوز 15 واط، في جناحها بالدورة السادسة والعشرين من المعرض الصيني الدولي للصناعة في شنغهاي، وفق ما أوردته منصة tomshardware.com. وقالت الشركة إن النموذج الذي يحمل اسم FlintNano LPP-OXXO يحتوي على 90% من مكونات محلية، ويتمتع بوقت تشغيل مستقر. ولم يُشغَّل الجهاز خلال العرض في المعرض.

يعتمد FlintNano LPP-OXXO على تقنية البلازما المنتجة بالليزر (LPP)، ويستخدم ليزر تشغيل بقدرة 1000 واط وتردد تشغيل يتراوح بين 1 كيلوهرتز و20 كيلوهرتز، مع كفاءة تحويل تتجاوز 2%. ويتجاوز إخراج الأشعة فوق البنفسجية المتطرفة 15 واط، بينما يبلغ سطوع المصدر 100 واط لكل مليمتر مربع في زاوية مجسمة (W/(mm²·sr)).

وتبلغ قيمة الامتداد البصري (étendue) للمصدر 1 × 10⁻³ مليمتر مربع في زاوية مجسمة، فيما ينتج البلازما بقطر 60 ميكرومتراً. ووفق المواصفات المعلنة، يستطيع FlintNano LPP-OXXO العمل بشكل متواصل لأكثر من 100 ساعة مع استقرار في البلازما بنسبة 3% RMS، واستقرار في قدرة إخراج الأشعة فوق البنفسجية المتطرفة بنسبة 5%.

وتعمل Langdao Silex أيضاً على تطوير مصدر EUV عالي القدرة يحمل اسم FlintMicro-LPP، وقالت إنه أنهى مرحلة إثبات صحة المبدأ. يُذكر أن الشركة تأسست في عام 2024 على يد خريجين من مختبر تفريغ الغاز البلازمي في جامعة Tsinghua. وفي أكتوبر 2025، أعلنت شركة ASML عن مصادر EUV من فئة 250 واط للإنتاج التجاري خلال الفترة 2018–2019، ولا تزال الشركة الهولندية المورّد الرئيسي لأنظمة ليثوغرافيا EUV.