Langdao Silex présente une source EUV prototype de plus de 15 W
La startup chinoise Langdao Silex a exposé le FlintNano LPP-OXXO au 26e China International Industry Fair à Shanghai, sans le mettre sous tension.
La startup chinoise Langdao Silex a présenté un prototype de source de lumière EUV affichant une puissance de sortie supérieure à 15 W, une proportion de composants nationaux de 90 % et une disponibilité jugée correcte, selon tomshardware.com. La démonstration a eu lieu lors du 26e China International Industry Fair à Shanghai, le système n'ayant pas été mis sous tension.
Le prototype, baptisé FlintNano LPP-OXXO, repose sur la technologie de plasma produit par laser (LPP). Il embarque un laser d'entraînement de 1 000 W fonctionnant à une fréquence de 1 kHz à 20 kHz, avec un rendement de conversion supérieur à 2 %.
Selon les données communiquées, la sortie EUV dépasse 15 W et la luminosité atteint 100 W/(mm²·sr). La source présente une étendue de 1 × 10⁻³ mm²·sr et génère un plasma de 60 μm de diamètre.
Le FlintNano LPP-OXXO peut fonctionner en continu pendant plus de 100 heures, avec une stabilité du plasma de 3 % RMS et une stabilité de la puissance de sortie EUV de 5 %. Langdao Silex développe parallèlement le FlintMicro-LPP, une source EUV de forte puissance dont la validation de principe a été achevée.
Un contexte industriel ancien
Langdao Silex a été fondée en 2024 par des anciens du laboratoire de plasma à décharge gazeuse de l'université Tsinghua. Pour situer les puissances en jeu, l'équipement de démonstration EUV d'ASML utilisait environ 10 W au point intermédiaire avec des sources DPP en 2007. Les sources LPP de Cymer installées sur les premiers systèmes NXE:3100 délivraient jusqu'à 11 W pendant l'exposition des plaquettes en 2012, puis environ 40 W au point intermédiaire sur de longues périodes en 2013. La même année, le japonais Gigaphoton visait 25 W avec son premier prototype et annonçait 43 W début 2014, avant d'atteindre 118 W lors d'un test de 10 minutes fin 2014. Les premières machines de la série NXE:3400 disposaient de sources de 125 W à 150 W au point intermédiaire, loin des besoins de la production de masse, ASML ayant introduit des sources EUV de classe 250 W pour la production commerciale en 2018-2019.
En bref
Qu'a présenté Langdao Silex au 26e China International Industry Fair ?
La startup a exposé le FlintNano LPP-OXXO, un prototype de source de lumière EUV dépassant 15 W de puissance de sortie, avec 90 % de composants nationaux. Le système n'a pas été mis sous tension lors de la démonstration.
Quelles sont les caractéristiques techniques du FlintNano LPP-OXXO ?
Il utilise un laser d'entraînement de 1 000 W à une fréquence de 1 kHz à 20 kHz, avec un rendement de conversion supérieur à 2 %, une luminosité de 100 W/(mm²·sr) et une étendue de 1 × 10⁻³ mm²·sr. Il peut fonctionner plus de 100 heures en continu.
Langdao Silex développe-t-elle d'autres sources EUV ?
Oui, la société travaille sur le FlintMicro-LPP, une source EUV de forte puissance dont la validation de principe a été achevée.